84862021 制造半导体器件或IC的化学气相沉积装置

84862021-制造半导体器件或IC的化学气相沉积装置

商品描述

+中文描述: 制造半导体器件或IC的化学气相沉积装置

+英文描述: Chemical Vapour Deposition(CVD) equipment for the manufacture of semiconductor or IC

+第一计量单位名称: 台

+第二计量单位名称: 千克

  • 2024年中国进出口统计
  • 中国出口统计

    中国出口总金额(美元):498243428
    中国出口总数量(台):1019
    中国出口第二总数量( ):

    中国进口统计

    中国进口总金额(美元):5438911734
    中国进口总数量(台):1839
    中国进口第二总数量( ):

    中国出口目的国TOP5

    出口目的国 金额美元 出口数量 数量单位 第二数量 第二数量单位
    印度 130112025 80 2966037 千克
    俄罗斯 92872551 22 100457 千克
    阿曼 66425834 256 6215732 千克
    马来西亚 39466101 27 890973 千克
    老挝 30797458 66 1300385 千克

    中国进口来源国TOP5

    进口来源国 金额美元 进口数量 数量单位 第二数量 第二数量单位
    新加坡 2836659016 511 3470498 千克
    韩国 826986492 257 1826441 千克
    日本 689016449 530 2864856 千克
    美国 336168331 206 995575 千克
    马来西亚 304755015 71 388223 千克
  • 产品归类信息
  • 归类于此海关编码下的详细产品名称:
    海关编码 附加码 商品名称 规格型号
    84862021 00 多功能管式炉 用于磷扩散,沉淀氮化硅膜等Centrotherm;320...
    84862021 00 镓源 分子束外延系统用无;2190-1-GACELL
    84862021 00 减反射膜沉积设备 型号:25238-A-01,品牌:ROTH&RAU
    84862021 00 减反射膜沉积设备 型号:25239-A-01,品牌:ROTH&RAU
    84862021 00 减反射膜沉积设备 型号:25240-A-01,品牌:ROTH&RAU
    84862021 00 金属有机物化学气相淀积设备 AIXTRON牌CRIUS31X2”
    84862021 00 装入取出式等离子CVD设备 用于电子零部件的沉积成膜;等离子;ULVAC;CX...
    数据来源:《全球海关数据智能Daas系统》;
  • 申报要素
    • 商品编码 8486202100
      商品名称 制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置
      申报要素 0.品牌类型[必填] 1.出口享惠情况[必填] 2.用途[必填] 3.功能[必填] 4.品牌(中文或外文名称)[必填] 5.型号[必填] 6.GTIN[选填] 7.CAS[选填] 8.其他[选填]
      法定单位名称 法定第二单位 千克
      最惠国进口税率 0 普通进口税率 30% 暂定进口税率
      消费税率 0 出口暂定税率 出口关税率
      增值税率 13% 海关监管条件 检验检疫
      检验检疫信息 1. 代码:8486202100999 名称:制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置(化学气相沉积装置(CVD)) 类型:电子行业成套设备 HS代码:8486202100 HS名称:制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置(化学气相沉积装置(CVD))
  • 进出口分析报告
    • 【报告编号】:No.EX84862021
    • 【报告名称】:中国出口制造半导体器件或IC的化学气相沉积装置研究报告
    • 【报告格式】:电子版
    • 【交付方式】:Email发送
    • 【订购热线】:18505441832 (8:30--18:00周一至周五)

    中国出口制造半导体器件或IC的化学气相沉积装置研究报告目录

    期限:年1月~
    ----数据来源:《全球海关数据智能Daas系统》

    Part Ⅰ 中国出口制造半导体器件或IC的化学气相沉积装置按国别分类分析
     1.1 按国别分类统计分析
     1.2 中国出口到全球各国每月数量变化分析
     1.3 中国出口到全球各国每月金额变化分析

    Part Ⅱ 中国出口制造半导体器件或IC的化学气相沉积装置按省市分类分析
     2.1 按省市与海关分类统计分析
     2.2 各省市每月出口数量变化分析
     2.3 省市国别平衡表

    Part Ⅲ 中国出口制造半导体器件或IC的化学气相沉积装置按贸易方式与省市分析
     3.1 按贸易方式分类统计分析
     3.2 按省市分类分析

    Part 中国出口制造半导体器件或IC的化学气相沉积装置价格及趋势分析、出口产品档次分析

     
    • 【报告编号】:No.IM84862021
    • 【报告名称】:中国进口制造半导体器件或IC的化学气相沉积装置研究报告
    • 【报告格式】:电子版
    • 【交付方式】:Email发送
    • 【订购热线】:18505441832 (8:30--18:00周一至周五)

    中国进口制造半导体器件或IC的化学气相沉积装置研究报告目录

    期限:年1月~
    ----数据来源:《全球海关数据智能Daas系统》

    Part Ⅰ 中国进口制造半导体器件或IC的化学气相沉积装置按国别分类分析
     1.1 按国别分类统计分析
     1.2 中国进口到全球各国每月数量变化分析
     1.3 中国进口到全球各国每月金额变化分析

    Part Ⅱ 中国进口制造半导体器件或IC的化学气相沉积装置按省市分类分析
     2.1 按省市与海关分类统计分析
     2.2 各省市每月进口数量变化分析
     2.3 省市国别平衡表

    Part Ⅲ 中国进口制造半导体器件或IC的化学气相沉积装置按贸易方式与省市分析
     3.1 按贸易方式分类统计分析
     3.2 按省市分类分析

    Part 中国进口制造半导体器件或IC的化学气相沉积装置价格及趋势分析、进口产品档次分析

     

    郑重声明:本报告仅供行业内企业参考研究,严禁任何企业用作商业目的进行炒作,未经我方书面同意,任何企业不得将本报告部分或全部内容提供给其他组织和个人,仅限于企业内部研究使用;任何报刊、杂志、网站、电视等媒体未经我方书面授权,严禁复制、转播、引用、发布本报告任何文字及数据,违者我方将采取法律手段维护我方权益,同时因此与企业造成的纠纷自行承担。